生产国别厂家：日本电子株式会社　　

1. 电子光学系统

原理：场发射扫描电镜是利用聚焦电子束与样品表面作用产生的二次电子、背散射电子等物理信号得到表面形貌图像以及样品相关信息，该电镜适用于分析和观察样品表面和断面形貌及结构。

主要技术指标：

　　二次电子像分辨率：1.0nm（15kV），1.4nm（1kV）

　　电子枪：冷场发射电子枪

　　加速电压：0.1 ～ 30kV

　　束流范围：1×10^-13～2×10^-9 A

　　图像放大倍数：25～1000,000×, 放大倍率误差：小于10%

2. X射线能谱系统　　 

X射线能谱仪（EDS）：作为附件配置在JSM-7500F 型场发射扫描电镜上使用

原理：用细聚焦电子束入射样品表面，激发出样品微区（微米级）元素的特征X射线，分析特征X射线的能量即可知道微区中所含元素的种类（定性分析）， 分析X射线的强度，则可知道微区中对应元素含量的多少（半定量分析）。

型号：X-Max^N　

生产国别厂家：　英国牛津仪器公司　

主要技术指标：窗口面积：80mm²; 分辨率：优于127eV； 稳定性：1,000cps~100,000cps时，谱峰漂移＜1eV，分辨率变化＜1eV，48小时内谱峰漂移＜1.5eV（Mn Kα）

元素探测范围：探测元素Be⁴-U⁹²

主要用途： X-Max^N型电制冷能谱仪无需添加液氮，具有方便快捷、分辨率高等特点。可对固体材料的表面和断面微区做元素点、线、面分布的定性和半定量分析。